近些年半導(dǎo)體、ALD蓬勃發(fā)展，臭氧被電子工業(yè)用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生長、光刻膠去除和多種清潔應(yīng)用。我們介紹幾款能滿足半導(dǎo)體行業(yè)用的臭氧發(fā)生器。
1、美國SEMOZON® AX8415
SEMOZON® AX8415 是 MKS 開發(fā)的具創(chuàng)新性和多功能性的臭氧發(fā)生器。該臭氧發(fā)生器的新穎結(jié)構(gòu)和 電池設(shè)計可產(chǎn)生高清潔、高濃度、高流量的臭氧，將氧氣轉(zhuǎn)化為 >400 g/Nm3 的高濃度臭氧，適用于半導(dǎo)體、平板顯示器和光伏行業(yè)的前沿應(yīng)用。
特點
在 5°C @ 2.5 slm 時臭氧濃度高達 425 g/Nm3 或 27.1 wt%
從 2.5 slm 到 50 slm 的 O2 流量可實現(xiàn)工藝靈活性
獲得 的電池設(shè)計可產(chǎn)生高濃度臭氧
在添加或不添加氮氣的情況下運行
閉環(huán)操作可實現(xiàn)更嚴格的過程控制
水冷
2、日本住友GRG臭氧發(fā)生器
日本住友GRG臭氧發(fā)生技術(shù)應(yīng)用于滿足飲用水和廢水處理設(shè)施、游泳池和水族館以及工業(yè)用水、廢水和再生水的工業(yè)設(shè)施的水處理需求水。此外，已將相同的技術(shù)應(yīng)用于化學(xué)品制造商、半導(dǎo)體制造商和 LCD 制造商等的生產(chǎn)過程中。
特點
· 無氮摻雜超凈臭氧無二氧化氮(NO)
· 高濃度400g/m2(N)[25.6wt%]
· 穩(wěn)定的臭氧濃度
· 體積小、重量輕 放電單元和動力單元在一個單元內(nèi)
· 耐高壓0.5MPa（工作壓力：0.15MPa）
· CE、 NRTL、 SEMI S2 兼容應(yīng)用
· ALD· 光刻膠條
· LPCVD· 濕法清洗· SOM
水冷
3、加拿大Absolute Ozone® ATLAS 30
Absolute Ozone® 臭氧發(fā)生器由于獨特的優(yōu)雅設(shè)計，利用微流體平臺技術(shù)和出色的耐用性，所有風(fēng)冷式 Absolute Ozone® 發(fā)生器都能可靠地為各種特殊應(yīng)用提供超純、高濃度的臭氧。其性能在業(yè)界能夠可靠地產(chǎn)生高達 16% 重量的高濃度臭氧。
特點
在添加或不添加氮氣的情況下運行
濃度（重量百分比 O3）：200mg/L（5 -20wt%）
工作壓力：15-35Psig
氣體流量：0.1 - 4 slpm
風(fēng)冷，將臭氧發(fā)生器放置在通風(fēng)良好且不受天氣因素影響的區(qū)域
藥物合成
ALD
4、美國 IN USA OG-5000 臭氧發(fā)生器
OG-5000系列臭氧發(fā)生器是為滿足半導(dǎo)體工業(yè)中對高濃度潔凈臭氧的需求而設(shè)計的，可應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積、原子層沉積、氧化物生長和濕法處理過程中。
特點
濃度（重量百分比 O3）：超200mg/L（5 -20wt%）
用于摻雜的氮氣 級別五或更高 (僅0.5%)
進氣流量 0.5 到 20 slpm
臭氧出口壓力 15 到 40 psig
化學(xué)氣相沉積 (CVD)
原子層沉積 (ALD)
氧化物生長
表面處理
水冷
5、瑞典Primozone GM1-4 2.0
Primozone GM1-4 2.0 高性能臭氧發(fā)生器基于 Primozone 的 技術(shù)。一種可實現(xiàn)可靠臭氧生產(chǎn)的技術(shù)，具有低能耗和出色的生命周期成本。高性能臭氧發(fā)生器基于 Primozone 的 技術(shù)。一種可實現(xiàn)可靠臭氧生產(chǎn)的技術(shù)，具有低能耗和出色的生命周期成本。
特點
進氣氧氣> 94%, N2 < 1%
可產(chǎn)生濃度高達 300 g /m³ 臭氧（相當(dāng)于 20% 重量）
絕對氣壓為 3 bar / 43.5 psi
每臺發(fā)電機都有一個集成的控制系統(tǒng)，提供安全、監(jiān)控和控制。
模塊化設(shè)計使發(fā)電機可靠且易于維護。
以上5款為半導(dǎo)體行業(yè)常用的高濃度臭氧發(fā)生器，如果還想了解更多信息，可以聯(lián)系同林。
文章來源：https://www.tonglin.cn/changshi/589.html
